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        場(chǎng)效應(yīng)管開關(guān)原理與三極管的區(qū)別
        • 發(fā)布時(shí)間:2021-03-05 18:24:22
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        場(chǎng)效應(yīng)管開關(guān)原理與三極管的區(qū)別
        三極管和場(chǎng)效應(yīng)管的區(qū)別
        三極管(BJT)的三個(gè)腳分別命名為:基極(B)、集電極、發(fā)射極(C)。
        場(chǎng)效應(yīng)管(FET)的三個(gè)腳命名為:柵極、源極、漏極。場(chǎng)效應(yīng)管分為結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管(JFET)和絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管(MOS管)兩大類。而MOS場(chǎng)效應(yīng)晶體管又分為N溝耗盡型和增強(qiáng)型;P溝耗盡型和增強(qiáng)型四大類。
        其中集電極和源極是接地的,基極和柵極是控制極。
        過去記憶這些極,總是忘記,所以問了下兩種管的工作原理。
        1.三極管,是電流驅(qū)動(dòng),需要消耗基極電流。所以三極管的放大系數(shù)通過Ic/Ib得到,就是說三極管的放大功能通過基極的電流實(shí)現(xiàn)的。
        2.場(chǎng)效應(yīng)管,是電壓驅(qū)動(dòng),柵極不導(dǎo)通,沒有電流經(jīng)過,不消耗電流。它通過電壓使得效應(yīng)管能電子聚集起來,形成一條電子通道,然后漏極和源極被導(dǎo)通。所以,場(chǎng)效應(yīng)管是通過導(dǎo)通電子隧道,實(shí)現(xiàn)放大功能的。柵極的電壓越高,導(dǎo)通的電流越大,但同時(shí)柵極不消耗電流。
        通過上面的對(duì)比,總結(jié)下場(chǎng)效應(yīng)管的優(yōu)缺點(diǎn):
        優(yōu)點(diǎn)是電流消耗相對(duì)少,導(dǎo)通速度快(只要加上電壓,就導(dǎo)通,比三極管通過形成電流導(dǎo)通的方式快)。
        缺點(diǎn)是容易被靜電擊穿。
        應(yīng)用場(chǎng)景
        場(chǎng)效應(yīng)管一般比較貴,該技術(shù)使用在內(nèi)存上,例如EPROM,F(xiàn)LASH都是用場(chǎng)效應(yīng)管保存數(shù)據(jù)。
        結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)管(N溝道JFET)工作原理:
        可將N溝道JFET看作帶“人工智能開關(guān)”的水龍頭。這就有三部分:進(jìn)水、人工智能開關(guān)、出水,可以分別看成是JFET的 d極 、g 極、s極。
        “人工”體現(xiàn)了開關(guān)的“控制”作用即vGS。JFET工作時(shí),在柵極與源極之間需加一負(fù)電壓(vGS<0),使柵極、溝道間的pn結(jié)反偏,柵極電流ig≈0,場(chǎng)效應(yīng)管呈現(xiàn)高達(dá)107ω以上的輸入電阻。在漏極與源極之間加一正電壓(vds>0),使N溝道中的多數(shù)載流子(電子)在電場(chǎng)作用下由源極向漏極運(yùn)動(dòng),形成電流iD。iD的大小受“人工開關(guān)”vGS的控制,vGS由零往負(fù)向增大時(shí),PN結(jié)的耗盡層將加寬,導(dǎo)電溝道變窄,vGS絕對(duì)值越大則人工開關(guān)越接近于關(guān)上,流出的水(iD)肯定越來越小了,當(dāng)你把開關(guān)關(guān)到一定程度的時(shí)候水就不流了。
        “智能”體現(xiàn)了開關(guān)的“影響”作用,當(dāng)水龍頭兩端壓力差(vDS)越大時(shí),則人工開關(guān)自動(dòng)智能“生長(zhǎng)”。vDS值越大則人工開關(guān)生長(zhǎng)越快,流水溝道越接近于關(guān)上,流出的水(iD)肯定越小了,當(dāng)人工開關(guān)生長(zhǎng)到一定程度的時(shí)候水也就不流了。理論上,隨著vDS逐漸增加,一方面溝道電場(chǎng)強(qiáng)度加大,有利于漏極電流iD增加;另一方面,有了vDS,就在由源極經(jīng)溝道到漏極組成的N型半導(dǎo)體區(qū)域中,產(chǎn)生了一個(gè)沿溝道的電位梯度。由于N溝道的電位從源端到漏端是逐漸升高的,所以在從源端到漏端的不同位置上,漏極與溝道之間的電位差是不相等的,離源極越遠(yuǎn),電位差越大,加到該處PN結(jié)的反向電壓也越大,耗盡層也越向N型半導(dǎo)體中心擴(kuò)展,使靠近漏極處的導(dǎo)電溝道比靠近源極要窄,導(dǎo)電溝道呈楔形。所以形象地比喻為當(dāng)水龍頭兩端壓力差(vDS)越大,則人工開關(guān)自動(dòng)智能“生長(zhǎng)”。
        當(dāng)開關(guān)第一次相碰時(shí),就是預(yù)夾斷狀態(tài),預(yù)夾斷之后id趨于飽和。
        當(dāng)vGS>0時(shí),將使PN結(jié)處于正向偏置而產(chǎn)生較大的柵流,破壞了它對(duì)漏極電流iD的控制作用,即將人工開關(guān)拔出來,在開關(guān)處又加了一根進(jìn)水水管,對(duì)水龍頭就沒有控制作用了。
        效應(yīng)管與三極管的區(qū)別
        絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管(N溝道增強(qiáng)型MOSFET)工作原理:
        可將N溝道MOSFET看作帶“人工智能開關(guān)”的水龍頭。相對(duì)應(yīng)情況同JFET。與JFET不同的的是,MOSFET剛開始人工開關(guān)是關(guān)著的,水流流不出來。當(dāng)在柵源之間加vGS>0, N型感生溝道(反型層)產(chǎn)生后,人工開關(guān)逐漸打開,水流(iD)也就越來越大。iD的大小受“人工開關(guān)”vGS的控制,vGS由零往正向增大時(shí),則柵極和P型硅片相當(dāng)于以二氧化硅為介質(zhì)的平板電容器,在正的柵源電壓作用下,介質(zhì)中便產(chǎn)生了一個(gè)垂直于半導(dǎo)體表面的由柵極指向P型襯底的電場(chǎng),這個(gè)電場(chǎng)排斥空穴而吸引電子,P型襯底中的少子電子被吸引到襯底表面,這些電子在柵極附近的P型硅表面便形成了一個(gè)N型薄層,即導(dǎo)通源極和漏極間的N型導(dǎo)電溝道。柵源電壓vGS越大則半導(dǎo)體表面的電場(chǎng)就越強(qiáng),吸引到P型硅表面的電子就越多,感生溝道將越厚,溝道電阻將越小。相當(dāng)于人工開關(guān)越接近于打開,流出的水(iD)肯定越來越多了,當(dāng)你把開關(guān)開到一定程度的時(shí)候水流就達(dá)到最大了。MOSFET的“智能”性與JFET原理相同,參上。
        效應(yīng)管與三極管的區(qū)別
        絕緣柵場(chǎng)效應(yīng)管(N溝道耗盡型MOSFET)工作原理:
        基本上與N溝道JFET一樣,只是當(dāng)vGS>0時(shí),N溝道耗盡型MOSFET由于絕緣層的存在,并不會(huì)產(chǎn)生PN結(jié)的正向電流,而是在溝道中感應(yīng)出更多的負(fù)電荷,使人工智能開關(guān)的控制作用更明顯。
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